?
?單片清洗機-華林科納CSE
Single wafer cleaner system
南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;
可處理晶圓尺寸2'-12';
可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;
主要應用領域:集成電路?? 聲表面波器件? 微波毫米波器件? MEMS? 先進封裝等
?![單片清洗機CSE 單片清洗機CSE]()
![單片清洗機CSE 單片清洗機CSE]()
![單片清洗機CSE 單片清洗機CSE]()
?
設 備 名 稱 | CSE-單片清洗機 |
類??型 | 單片式 |
適 用 領 域 | 半導體、太陽能、液晶、MEMS等 |
清 洗 方 式 | 2英寸——12英寸 |
設備穩定性 | 1、≥0.2um顆粒少于10顆 2、金屬附著量:<3E10 atoms/ cm2 3、純水消耗量:1L/min/片 4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2% 5、干燥時間:≤20S 6、藥液回收率:>95% | 單片式優點 | 1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機) 2、節約成本(藥液循環利用,消耗量遠低于槽式) 3、良品率高 4、有效避免邊緣再附著 5、立體層疊式結構,占地面積小 |
?
更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注南通華林科納半導體官網,關注http://www.jeans-you.com?,400-8768-096,18913575037
?