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    發布時間: 2016 - 03 - 10
    PP通風櫥---華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-PP通風柜 專為氫氟酸及硝化類濃酸設計的實驗室通風櫥,克服了傳統通風柜在高溫濃酸環境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷,具有的耐酸堿性能。適用行業:適用于各類研究實驗室---半導體實驗室、藥物實驗室 【產品描述】設備名稱南通華林科納CSE-PP通風柜產品描述【柜體】:采用厚8-12mm瓷白色PP制作,耐酸堿性能優異。經CNC精確裁切加工后,同色同質焊條熔焊修飾處理,表面無銳角。【上部柜體】:排氣柜采用頂罩式抽氣設計,設計有1個∮250mm排風口。導流板采用同質PP材料制作,耐酸堿性能優異。安裝尺寸科學合理,無氣流死角,獲取最大的廢氣捕捉性能。【操作臺面】:臺面采用12mmPP板制作,耐酸堿性能優異。通風柜臺面上水槽根據用戶要求配置。【下部柜體】:儲物柜體,中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈,耐腐蝕性能好。拉手采用同質C型PP拉手。【調節門】1. 調節門玻璃:采用厚4mm透明亞克力玻璃制作,耐酸堿性能優異。2.調節門邊框:為厚瓷白色PP板c型槽,嵌入式結合,以確保安全及耐用性。  3.調節門懸吊鋼索:每臺通風柜調節門鋼索連接。4.調節門平衡配重:采無段式配重箱設計,其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞。【電器設備】1.開關:按鈕帶燈式自鎖開關,包含風機開關,照明開關,總電源開關。2.照明設備:采用全罩式三防燈具,燈罩內具220v*20w*23.插座部分:每臺通風柜裝設帶防濺蓋220V10A 電源插座2個。設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.jeans-you.com 400-8768-096;18913575037【詳細參數】產品名稱PP通風櫥產品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸(L×W×H)1200...
    發布時間: 2017 - 04 - 06
    甩干機—華林科納CSESpin-dry machine 設備名稱CSE-甩干機主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H=面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉子旋轉→HOTN2吹干加轉子旋轉→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設備預設之制程結束。工作轉速300—2400r/min主體構造特點外觀材質:本體以W-PP10t板材質組焊組合。設備骨架:SUS25*25*1.2T骨架組合,結構強固。作業視窗:視窗采透明壓克力材質,有效掌握作業情況。管路系統:OneChamber模塊化。排風系統:間接式抽風設計,有效穩定空氣擾流,并同時減低異味。機臺支腳:具高低調整及鎖定功能。機臺正壓保護:采N2正壓保護。機臺微塵控制量:無刷伺服電機去靜電  氮氣控制單元1)管件閥門:SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮氣加熱功能:不銹鋼加熱器在線加熱3)低壓氮氣功能:待機時,保持腔內正壓,防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式沖洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭,對腔體排水水質進行監測。3)沖洗工藝完成后,氮氣將殘留在沖洗管路內的去離子水吹凈。4)待機時,保持回水盒內有水流入且流量可調。電控單元及軟件系統1)控制器操作界面:5.7”記憶人機+PLC可程序自動化控制器(人機TouchScreen)。2)軟件功能:編輯/儲存:制程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作熒幕上修改。3)儲存能力:記憶模塊:參數記憶,配方設定。 更多的甩干機清洗相關設備,可以關注http://www.jeans-you.com ,400-8768-096
    發布時間: 2016 - 12 - 05
    干燥系統-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術優點NID?干燥系統利用IPA和N2霧化分配,以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術 可單臺設備或整合在濕法設備中 最佳的占地 成熟的工藝 無水跡 無碎片應用:拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征: 可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓 適用于標準高邊或低邊花籃規格:藝時間: 一般親水性晶圓片: ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片: ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量: 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點: 干燥后無斑點IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run去邊緣: 3 mm一般安裝參數:尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標準電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標準電流: 3 x 33 A培訓:操作、維護、工藝培訓標準: CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性: 平均故障間隔時間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時間 ≥ 300 h 可運行時間 ≥ 97 %更多的干燥系統設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.jeans-you.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 06 - 06
    廢氣處理系統-南通華林科納CSE南通華林科納半導體CSE 的廢氣處理系統可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa; 設備名稱南通華林科納CSE-廢氣處理系統系統說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa;2.工藝穩定,負壓波動在15%.3.電壓:380V,三相五線,8KW;4.采用英國廢氣處理系統工藝,CSE在原工藝上經過升級改造,新的系統推出市場后,客戶反映效果較好;系統工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統,主要由以下幾大部分組成:負壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風孔、負壓動力泵、循環噴淋泵、電控系統;廢氣經過一級錐形噴淋塔進入負壓腔內(每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭,對廢氣層形成水封,瞬間中和廢氣)、通過射流器產生負壓把負壓腔內的廢氣抽入正壓腔內中和(在負壓腔與正壓腔之間設有三級噴淋凈化塔,三級噴淋凈化塔內配有PP填料,配有噴嘴,再次充分噴淋中和廢氣)、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.jeans-you.com 400-8768-096 ;18913575037更多半導體行業廢氣處理系統可以關注南通華林科納半導體設備官網www.jeans-you.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統的相關方案。
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    GMP自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-GMP自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-GMP自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    研磨液自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-研磨液自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-研磨液自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    SPM腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備。其中SPM自動清洗系統設備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設 備 名  稱南通華林科納CSE-SPM腐蝕酸洗機適 用 領  域LED外延及芯片制造設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備基 本 介 紹主要功能:通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸(25片/藍)設備形式:室內放置型操作形式:自動設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.jeans-you.com 400-8768-096;18913575037更多的全自動半導體SPM腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.jeans-you.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
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    TFT-LCD的制造過程此文件僅供參考學習,勿用于商業用途一、Array制程薄膜黃光蝕刻剝膜二、Cell制程配向膜印刷密封膠涂布噴淋間隔物注入液晶密封組合偏光片貼附三、Module制程COG制程軟性電路板壓合印刷電路板壓合背光模組組裝老化測試
    發布時間: 2019 - 02 - 12
    瀏覽次數:116
    低通濾波器低通濾波器(英語:Low-pass filter)容許低頻信號通過,但減弱(或減少)頻率高于截止頻率的信號的通過。對于不同濾波器而言,每個頻率的信號的減弱程度不同。當使用在音頻應用時,它有時被稱為高頻剪切濾波器,或高音消除濾波器。高通濾波器則相反,而帶通濾波器則是高通濾波器同低通濾波器的組合。低通濾波器概念有許多不同的形式,其中包括電子線路(如音頻設備中使用的hiss濾波器、平滑數據的數字算法、音障(acoustic barriers)、圖像模糊處理等等)。低通濾波器在信號處理中的作用等同于其它領域如金融領域中移動平均數(moving average)所起的作用;這兩個工具都通過剔除短期波動、保留長期發展趨勢提供了信號的平滑形式。低通濾波器實例一個固體屏障就是一個聲波的低通濾波器。當另外一個房間中播放音樂時,很容易聽到音樂的低音,但是高音部分大部分被過濾掉了。類似的情況是一輛小汽車中播放非常大的音樂聲,在另外一個車中的人聽來卻是低音節拍,因為這時封閉的汽車和空氣間隔起到了低通濾波器的作用,減弱了所有的高音。電子低通濾波器用來驅動重低音喇叭(subwoofer)和其它類型的擴音器、并且阻塞它們不能有效傳播的高音節拍。無線電發射機使用低通濾波器阻塞可能引起與其它通信發生干擾的諧波發射。DSL分離器使用低通和高通濾波器分離共享使用雙絞線的DSL和POTS信號。低通濾波器也在如R...
    發布時間: 2019 - 01 - 30
    瀏覽次數:41
    線性濾波器線性濾波器用于時變輸入信號的線性運算(en:linear operator)。線性濾波器在電子學和數字信號處理中應用非常普遍(參見電子濾波器中的文章),它們也用于機械工程和其它技術領域。線性濾波器經常用于剔除輸入信號中不想要的頻率或者從許多頻率中選擇一個想要的頻率。濾波器和濾波器技術類型非常廣泛,這篇文章將給出一個總的描述。不論它們是電子的、電力的還是機械的,也不論它們的頻率范圍或者時間尺度有多大,線性濾波器的數學理論都是通用的。按照傳遞函數分類:脈沖響應線性濾波器可以分為兩類:無限脈沖響應(IIR)和有限脈沖響應(FIR)濾波器。通常,一個窄(compact)頻率響應的濾波器有無限脈沖響應,一個窄脈沖響應的濾波器有無限頻率響應。直到,人們才能夠實現模擬IIR濾波器,但是,如模擬延時線(en:analog delay line)和數字濾波器這樣的技術都已經實現了FIR濾波器。頻率響應幾種常見的線性濾波器:● 允許低頻率通過的低通濾波器。● 允許高頻率通過的高通濾波器。● 允許一定范圍頻率通過的帶通濾波器。● 阻止一定范圍頻率通過并且允許其它頻率通過的帶阻濾波器。● 允許所有頻率通過、僅僅改變相位關系的全通濾波器。● 阻止一個狹窄頻率范圍通過的特殊帶阻濾波器陷波濾波器(en:notch filter)。● ...
    發布時間: 2019 - 01 - 30
    瀏覽次數:73
    單晶硅片加工工藝主要為:切斷→外徑滾圓→切片→倒角→研磨→腐蝕、清洗等。切斷:是指在晶體生長完成后, 沿垂直與晶體生長的方向切去晶體硅頭尾無用的部分,即頭部的籽晶和放肩部分以及尾部的收尾部分。通常利用外圓切割機進行切割。 外圓切割機刀片邊緣為金剛石涂層。這種切割機的刀片厚,速度快,操作方便;但是刀縫寬,浪費材料,而且硅片表面機械損傷嚴重。目前,也有使用帶式切割機來割斷晶體硅的,尤其適用于大直徑的單晶硅。外徑滾圓:在直拉單晶硅中,由于晶體生長方時的熱振動,熱沖擊等原因,晶體表面都不是非常平滑的,也就是說整根單晶硅的直徑有一定偏差起伏;而且晶體生長完成后的單晶硅棒表面存在扁平的棱線,需要進一步加工,使得整根單晶硅棒的直徑達到統一,以便于在后續的材料和加工工藝中操作。切片:在單晶硅滾圓工序完成后,需要對單晶硅棒切片。太陽電池用單晶硅在切片時,對硅片的晶向,平行度和翹曲度等參數要求不高,只需對硅片的厚度進行控制。倒角:將單晶硅棒切割成晶片,晶片銳利邊需要休整成圓弧形,主要防止晶片邊緣破裂及晶格缺陷產生。研磨:切片后,在硅片的表面產生線痕,需要通過研磨除去切片所造成的鋸痕及表面損傷層,有效改善單晶硅的翹曲度、平坦度與平行度,達到一個拋光處理的過程規格。腐蝕、清洗:切片后,硅片表面有機械損傷層,近表面晶體的晶格不完整,而且硅片表面有金屬粒子等雜質污染。因此,一般切片后,在制備太陽能電池前,需要...
    發布時間: 2019 - 01 - 29
    瀏覽次數:176
    無源濾波器單極型以RC實現的低通濾波器最簡單的線性濾波器的電子實現是電阻、電感和電容的組合。這些濾波器有RC、RL、LC和RLC等多種形式。所有這些類型的濾波器總稱為無源濾波器,這是因為它們都不需外部電源供電。電感阻止高頻信號通過而允許低頻信號通過,電容的特性卻相反。信號能夠通過電感的濾波器、或者通過電容連接到地的濾波器對于低頻信號的衰減要比高頻信號小,稱為低通濾波器。如果信號通過電容、或者通過電感連接到地,那么濾波器對于高頻信號的衰減要比低頻信號小,稱為高通濾波器。電阻自身沒有頻率選擇的特性,但是加入到電感和電容一起決定電路的時間常數,因此也決定了相應的頻率。在大概超過100 MHz這樣非常高的頻率,有時電感由一個單環或者金屬片組成,電容由相鄰的金屬片組成,它們稱為stubs。多極型二階濾波器用Q因數來衡量。如果一個濾波器通過或者阻止的頻率帶寬與中心頻率相比非常狹窄那么就說這個濾波器有很高的Q因數。Q定義為中心頻率/3dB帶寬。
    發布時間: 2019 - 01 - 29
    瀏覽次數:42
    電子濾波器電子濾波器(英語:electronic filters)可執行信號處理功能的電子線路組件或設備,它專門用于去除信號中不想要的成分或者增強所需成分。電子濾波器有音頻濾波器(wave filter)與噪聲濾波器(noise filter)等應用設備,可以是:● 無源的或者有源的● 模擬的或者數字的,(大陸稱為,模擬的或者數字的)● 離散時間(采樣)的或者連續時間的● 線性的或者非線性的● 無限脈沖響應(IIR)或者有限脈沖響應(FIR)不管它們的設計有什么不同,最常見的電子濾波器類型是線性濾波器。參見線性濾波器方面的文章中關于它們的設計和分析的詳細內容。
    發布時間: 2019 - 01 - 29
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    薄膜光學薄膜光學是光學的一個分支,處理各種很薄的光學材料(薄膜)。和薄膜光學有關的材料,其厚度需要在可見光波長的等級內(約500 nm)。此厚度范圍的薄膜因為光的干涉,以及薄膜、空間及物質間的折射率差異,可以有顯著的折射特性,這些效應稱為薄膜干涉,會影響光學材料折射及傳輸光的特性,像在肥皂泡及水上的油漬就會看到這類的情形。更廣義具有類似光學性質,但不是平面層狀結構的周期性結構稱為光子晶體。在制造上,薄膜層可以由在基質(一般是玻璃)上沉積一層至多層薄膜而產生,一般會用像蒸發或濺射淀積等物理氣相沉積方式,或是化學氣相沉積法。這類的薄膜常用來作光學鍍膜,像是家用或車用的低輻射玻璃、玻璃上的增透膜、汽車車頭燈的反光擋板,以及高精度的濾光器及鏡子。這類鍍膜的另一種應用是空間濾波器。
    發布時間: 2019 - 01 - 26
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    薄膜薄膜材料是指厚度介于單原子到幾毫米間的薄金屬或有機物層。電子半導體功能器件和光學鍍膜是薄膜技術的主要應用。一個很為人們熟知的表面技術的應用是家用的鏡子:為了形成反射表面在鏡子的背面常常鍍上一層金屬,鍍銀操作廣泛應用于鏡子的制作,而低于一個納米的極薄的鍍層常常用來制作雙面鏡。當光學用薄膜材料(例如減反射膜消反射膜等)由數個不同厚度不同反射率的薄層復合而成時,他們的光學性能可以得到加強。相似結構的由不同金屬薄層組成的周期性排列的薄膜會形成所謂的超晶格結果。在超晶格結構中,電子的運動被限制在二維空間中而不能在三維空間中運動于是產生了量子阱效應。薄膜技術有很廣泛的應用。長久以來的研究已經將鐵磁薄膜用于計算機存儲設備,醫藥品,制造薄膜電池,染料敏化太陽能電池等。陶瓷薄膜也有很廣泛的應用。由于陶瓷材料相對的高硬度使這類薄膜可以用于保護襯底免受腐蝕氧化以及磨損的危害。在刀具上陶瓷薄膜有著尤其顯著的功用,使用陶瓷薄膜的刀具的使用壽命可以有效提升幾個數量級。現階段對于一種被稱為多組分非晶重金屬陽離子氧化物的新型的無機氧化物材料的研究正在進行,這種材料有望用于制造穩定,環保,低成本的透明晶體管。
    發布時間: 2019 - 01 - 26
    瀏覽次數:44
    硅是用來制造芯片的最重要半導體材料。對于可用于制造半導體器件的硅而言。使用一種特殊純度級以滿足嚴格的材料和物理要求。單晶硅的生長柴可拉斯基法(簡稱柴氏法 英語:Czochralski process),又稱直拉法,是一種用來獲取半導體(如硅、鍺和砷化鎵等)、金屬(如鈀、鉑、銀、金等)、鹽、合成寶石單晶材料的晶體生長方法。這個方法得名于波蘭科學家揚·柴可拉斯基,他在1916年研究金屬的結晶速率時,發明了這種方法。后來,演變為鋼鐵工廠的標準制程之一。直拉法最重要的應用是晶錠、晶棒、單晶硅的生長。其他的半導體,例如砷化鎵,也可以利用直拉法進行生長,也有一些其他方法(如布里奇曼-史托巴格法)可以獲得更低的晶體缺陷密度。
    發布時間: 2019 - 01 - 25
    瀏覽次數:85
    化學氣相沉積化學氣相沉積(英語:chemical vapor deposition,簡稱CVD)是一種用來產生純度高、性能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD工藝是將晶圓(基底)暴露在一種或多種不同的前趨物下,在基底表面發生化學反應或/及化學分解來產生欲沉積的薄膜。反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品,但大多會隨著氣流被帶走,而不會留在反應腔(reaction chamber)中。微制程大都使用CVD技術來沉積不同形式的材料,包括單晶、多晶、非晶及外延材料。這些材料有硅、碳纖維、碳納米纖維、納米線、納米碳管、SiO2、硅鍺、鎢、硅碳、氮化硅、氮氧化硅及各種不同的high-k介質等材料。CVD制程也常用來生成合成鉆石。
    發布時間: 2019 - 01 - 25
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